超聲波破碎儀超聲波由水槽底部發(fā)出（不需探頭），一次可檢測12個樣本，各樣本均在單獨的全封閉試管中進行破碎，避免了交叉污染；實驗過程中不需要特殊材質的耗材，節(jié)省了實驗成本；采用4℃水浴超聲，能量分布均勻，超聲作用*；超聲參數(shù)設置靈活，實驗步驟標準化，實驗重復性好，結果可靠性高。
超聲波破碎儀的主要清洗方式有以下幾種：
1、半水基清洗。近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝，它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它能有效地避免溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng)；設備上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長；在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑突出的一個優(yōu)點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。
2、溶劑清洗。比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用；但缺點也比較明顯，由于光學玻璃的生產環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。
3、鍍膜前清洗。鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油、手印、灰塵等。由于鍍膜工序對鏡片潔凈度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。
4、鍍膜后清洗。一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗，其中接合前清洗要求嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求，其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。
超聲波破碎儀使用注意事項
1、探頭末端離液面10—15mm，
2、盛樣品的容器為玻璃容器，不可為其它容器;
3、超聲波細胞破碎儀探頭不能碰到容器壁和底;
4、樣品須為水相而非有機相;
5、使用超聲波細胞破碎儀微探頭時，振幅調節(jié)不得超過70%，否則會造成探頭損壞。
